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随着摩尔定律继续向前演进，芯片线宽变得越来越小，开发新工艺的难度越来越大，其成本也随之不断提升。为了解决高昂的成本问题，厂商开始严格控制半导体制造过程中的产品良率。在这个过程当中，颗粒、杂质和污染控制变得极为重要。而优质的过滤解决方案，则可以有效延长生产过程中化学品的使用时间，延长设备使用寿命，减少生产缺陷，确保整个生产工艺流程的稳定，从而全方位提高芯片制造的良率、降低生产成本。尤其是在市场追逐先进工艺、晶圆产能又频频出现紧缺的情况下，关乎芯片制造良率的问题再次受到了业界的

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